O Laboratório de Nanofabricação se dedica ao desenvolvimento de nanodispositivos. Suas instalações oferecem uma infraestrutura avançada de sala-limpa (100 m2) com ambientes classes ISO 6 e ISO 7 dedicadas a processos de litografia por feixe de elétrons, ion milling, capelas para deposição de resinas, e instrumentação para metrologia e controle de qualidade dos processos. ​

Especificações:

• Energia de feixe: 20 eV – 30 keV;
• Tamanho do feixe: ≤ 1.6 nm à 20 keV;
• Corrente: 5 pA – 20 nA;
• Velocidade de escrita: 0.125 Hz – 20 MHz;
• Tamanho de amostra: ≤ 100 mm;
• SEM;
  Fonte: https://www.raith.com/product/eline-plus

Especificações:

• Tamanho de substratos: Até wafers de 100 mm de diâmetro;
• Velocidade máxima: 9.900 rpm;
• Vácuo: Por meio de bomba mecânica;
• Capela de limpeza e revelação construída em polipropileno.