MICROFABRICAÇÃOMicrofabricação é um conjunto de técnicas para fabricar dispositivos e/ou sensores na escala de 10-6 mm. Dentre as técnicas destacam-se: fotolitografia, deposição de filmes finos e corrosão. Algumas tecnologias de impressão 3D também se enquadram nesta categoria por possuirem resolução de impressão nesta mesma escala. O laboratório conta com um parque de equipamentos dedicados à cada etapa do processo, incluindo capelas para limpeza, revelação de amostras e espalhamento de resinas, microscópios ópticos para inspeção de amostras em fase de processamento, além de chapa quente e forno para tratamento térmico.
Equipamentos comuns aos processos de microfabricação
Microscópio óptico
- Tamanho de amostra: Até 100 mm;
- Lentes disponíveis (microscópio óptico convencional): 5x, 10x, 20x, 50x, 100x e 150x;
- Software para medições e fotografias;
- Operação manual;
- Disponível dentro das salas limpas para inspeção de amostras em fase de processamento.
Capelas em polipropileno para limpeza de amostras
- Limpeza orgânica com cascata de acetona;
- Limpeza orgânica com solução piranha;
- Limpeza RCA;
- Banho ultrassônico;
- Água deionizada em todas as pias;
- Pistolas de N2 disponíveis em todas as capelas.
Estufa a vácuo para tratamento térmico Thermo
- Tamanho de substratos: Até wafers de 100 mm de diâmetro;
- Velocidade máxima: 8.000 rpm;
- Vácuo: Venturi (Amostras pesadas devem ser rotacionadas com velocidade menor – risco de serem arremessadas).
Estufa a vácuo para tratamento térmico Thermo
- Temperatura : até 320°C;
- Gases disponíveis: Ar, N2.
Capelas em polipropileno para limpeza de amostras
Limpeza orgânica com cascata de acetona.
Limpeza orgânica com solução piranha.
Limpeza RCA.
Banho ultrassônico.
Água deionizada em todas as pias.
Pistolas de N2 disponíveis em todas as capelas.
Microscopio ótico
Tamanho de amostra: Até 100 mm
Lentes disponíveis (microscópio ótico convencional): 5x, 10x, 20x, 50x, 100x e 150x.
Software para medições e fotografias
Operação manual
Disponível dentro das salas limpas para inspeção de amostras em fase de processamento
Spinner para espalhamento de resina WS 650MZ (Laurell)
Tamanho de substratos: Até wafers de 100 mm de diâmetro.
Velocidade máxima: 8.000 rpm.
Vácuo: Venturi (Amostras pesadas devem ser rotacionadas com velocidade menor – risco de ser arremessada)
Estufa a vácuo para tratamento térmico Thermo
Temperatura : Até 320°C.
Gases disponíveis: Ar, N2