NANOFABRICAÇÃOEquipamentos
Litografia por feixe de elétrons
- Energia de feixe: 20 eV – 30 keV;
- Tamanho do feixe: ≤ 1.6 nm à 20 keV;
- Corrente: 5 pA – 20 nA;
- Velocidade de escrita: 0.125 Hz – 20 MHz;
- Tamanho de amostra: ≤ 100 mm;
- Disponibilidade de electron-resist tipo positivo e negativo
Fonte: https://www.raith.com/product/eline-plus
Espalhamento de resina/limpeza/revelação
- Tamanho de substratos: Até wafers de 100 mm de diâmetro;
- Velocidade máxima: 9.900 rpm;
- Vácuo: Por meio de bomba mecânica;
- Capela de limpeza e revelação construída em polipropileno.
Litografia por feixe de elétrons
- Energia de feixe: 20 eV – 30 keV;
- Tamanho do feixe: ≤ 1.6 nm à 20 keV;
- Corrente: 5 pA – 20 nA;
- Velocidade de escrita: 0.125 Hz – 20 MHz;
- Tamanho de amostra: ≤ 100 mm;
- SEM;
- EDS;
- Caracterização elétrica;
Fonte: https://www.raith.com/product/eline-plus
Em comissionamento até Junho de 2021
Espalhamento de resina/limpeza/revelação
- Tamanho de substratos: Até wafers de 100 mm de diâmetro;
- Velocidade máxima: 9.900 rpm;
- Vácuo: Por meio de bomba mecânica;
- Capela de limpeza e revelação construída em polipropileno.